產(chǎn)品特征:

·安裝方便 ·使用簡(jiǎn)單 ·處理速度快 ·真空度 ·可接入輔助氣體 ·過(guò)程控制 ·低成本處理方式

該設備的真空腔體與智能集成等離子電極組合實(shí)現了在0.1-- 3Mbar狀態(tài)下等離子體的精準放電，同時(shí)處理時(shí)間也很短，一般狀態(tài)下針對不同的材料有不同的組合方案處理時(shí)間一般控制在20-120秒左右。

VacuTEC2020真空等離子處理設備具有操作簡(jiǎn)單、生產(chǎn)加工速度快等優(yōu)點(diǎn)。處理過(guò)程中可以加入像氬和氧氣等輔助氣體來(lái)提升表面處理效果，但在大多數情況下，因為高功率的等離子體放電一般不需要氣體來(lái)輔助參與。

VacuTEC2020采用先進(jìn)的Tantec主機HV-X系列作為電源，特別設計的高頻高壓變壓器為等離子體電極提供了強大的功率輸出。

Tantec不僅有標準的真空技術(shù)設備，也有定制設計的設備。真空技術(shù)定制機器是專(zhuān)門(mén)以客戶(hù)標準開(kāi)發(fā)的來(lái)100%適應客戶(hù)的生產(chǎn)線(xiàn)。

特點(diǎn)：
·安裝簡(jiǎn)便 僅需連接電源和壓縮空氣。
·處理速度快 高效的輸出功率可以實(shí)現不同的材料在20-120秒之內即可完成快速處理。
·維護簡(jiǎn)單 本設備安裝方便，操作簡(jiǎn)單，便于維護。
·腔體門(mén)設計 采用鉸鏈連接加視窗設計方案。
·適用范圍 可以適用于導體和非導體的任何材料表面。
·低成本處理工藝 幾乎不需要任何輔助氣
·處理過(guò)程監控 整個(gè)處理過(guò)程HV-X主機與PLC實(shí)時(shí)監控，所有的參數都顯示在觸摸屏上。
·真空度 針對于不同的材料等離子設備釋放區域在0.1-3Mba之間可以隨意設定。
·輔助氣體 處理過(guò)程中可以加入像氬氣、氧氣、氮氣的輔助氣體，但一般情況下不需要。