表面處理設備
VacuLAB-X小 型實(shí)驗室用真空等離子設備
產(chǎn)品特征:
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·使用簡(jiǎn)便 ·處理速度快 ·真空度 ·集成的放電發(fā)生器 ·過(guò)程控制 ·等離子過(guò)程可視化 ·測試效果通用 |
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供實(shí)驗室測試和小批量生產(chǎn)使用的臺式真空等離子設備
Tantec的VacuLAB是VacuTEC設備的精簡(jiǎn)版。VacuLAB可用于小批量的測試，并且用戶(hù)可控制所有參數。采用VacuLAB測試的結果也可應用到VacuTEC設備中。
VacuLAB是根據VacuTEC設備而專(zhuān)門(mén)設計的小型設備，具有體積小，方便攜帶等特點(diǎn)，既可以在實(shí)驗室即時(shí)完成各種樣品的效果測試，也可以用于小批量的生產(chǎn)。
VacuLAB集成proface面板，更加有利于控制和監控參數變化的整個(gè)過(guò)程。
VacuLAB采用標準的陶瓷絕緣電極，保證了測試效果同樣適用于VacuTEC設備。
VacuLAB的倉門(mén)是透明的，因此用戶(hù)可觀(guān)察到等離子放電處理產(chǎn)品的全過(guò)程。
特點(diǎn)：
·使用簡(jiǎn)便 在實(shí)驗室中可對各種部件進(jìn)行測試，連接電源和裝置即可。
·處理速度快 材質(zhì)不同，處理所需時(shí)間不同，一般為10-180s。
·真空度 處理過(guò)程中處理倉中的真空度為1-4mbar。
·集成的放電發(fā)生器 300w的放電發(fā)生器與設備集成為一體，可通過(guò)觸摸屏上進(jìn)行控制。
·過(guò)程控制 通過(guò)內置的proface面板和PLC裝置，可控制和監控整個(gè)處理過(guò)程。
·等離子過(guò)程可視化 處理倉門(mén)是透明材質(zhì)制作，可以觀(guān)察到等離子處理的過(guò)程。
·測試效果通用 測試的效果也適用于VacuTEC。
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